光刻胶：半导体材料皇冠上的明珠，国产化进程加速与市场波动分析,韩国seo皮衣_网络推广

光刻胶：半导体材料皇冠上的明珠，国产化进程加速与市场波动分析,韩国seo皮衣

栏目：网络推广发布时间：2024-12-14

有一种材料，占半导体市场不到1%，但却决定了能否生产芯片。该材料的供应商集中在日本和美国，尤其是龙头企业最集中在日本。这种材料就是光刻胶。光刻胶也被誉为“半导 ... 光刻胶：半导体材料皇冠上的明珠，国产化进程加速与市场波动分析

有一种材料，占半导体市场不到1%，但却决定了能否生产芯片。该材料的供应商集中在日本和美国，尤其是龙头企业最集中在日本。这种材料就是光刻胶。光刻胶也被誉为“半导体材料皇冠上的明珠”。虽然其市场规模较小，但却有能力撬动数千亿美元的半导体市场。

年初，各家公司开始公布上一年度的业绩报告。国内光刻胶企业表现不俗，有的企业甚至报出业绩增幅超过120%。一时间，出现“高端光刻胶国产化进程有望加速”的声音。不过，《国际电子商报》也注意到，2021年11月中旬至2022年2月下旬，资本市场光刻胶板块持续震荡下跌。三个多月了。同时，截至2022年2月，国产高端光刻胶尚未实现量产。

一方面是一些媒体的大力点赞，另一方面则是业内人士的冷静思考。目前国内光刻胶的发展现状如何？这种材料的国产化面临哪些挑战？本期《国际电子商务报》就以上话题进行探讨和分析。

存在市场壁垒和技术壁垒

我们在《国际电子商报》10月号《半导体材料供应商盘点及市场竞争格局分析》文章中讲解了光刻胶的定义和分类——光刻胶又称光刻胶，是一种通过UV产生的化学材料光。受电子束、离子束、X射线等照射或照射后溶解度会发生变化的耐蚀刻薄膜材料。按形成的图像分类，光刻胶分为正性和负性两类。涂层经过曝光、显影后，曝光的部分溶解，留下未曝光的部分，这就是正性光刻胶。反之亦然，它是负性光刻胶。紫外光刻胶；根据曝光光源和辐射源的不同，可分为紫外正/负光刻胶、深紫外光刻胶、X射线胶、电子束胶、离子束胶等；根据下游应用不同，光刻胶可分为半导体光刻胶（24%）、LCD光刻胶（27%）、PCB光刻胶（25%）和其他光刻胶（24%）。

光刻胶是半导体的核心材料，但其在半导体市场的份额并不大。过去，当各国尊重全球分工时，这种市场规模较小的材料受到的关注较少。当前，受主要国家政治经济格局影响，全球分工面临巨大挑战。与此同时，各国对本土半导体也更加重视。但半导体材料领域的光刻胶供应链建设面临一些市场障碍和技术壁垒，这对一些企业来说缺乏足够的动力。

美国电子材料市场研究公司数据预计，2021年全球半导体光刻胶市场规模约为19亿美元，同比增长11%； WSTS（世界半导体贸易统计）预计，2021年全球半导体市场规模将达到5510亿美元，较2020年增长25.1%。综合上述数据可以看出，光刻胶市场仅占全球半导体市场的0.34%。整个半导体市场。显然，与庞大的半导体市场相比，光刻胶的市场空间很小。

光刻胶在半导体制造过程中极其重要。它的合规性决定了晶圆的良率。《国际电子商报》注意到，2019年Q1，台积电第14厂曾发生光刻胶规格不符事件，导致大量晶圆报废。这直接导致10万片16nm和12nm工艺产品报废，最终导致台积电Q1营收下降5.5%。亿元，毛利率下降2.6个百分点。这就是为什么光刻胶市场虽然很小，但却可以撬动整个半导体行业。

表1 第五代光刻机及对应的光刻胶类型

从技术角度来看，光刻胶的核心技术参数包括分辨率、对比度和灵敏度。随着芯片尺寸越来越小，行业对光刻机和光刻胶的要求也越来越高。为了适应集成电路发展的需要，光刻胶缩短了曝光波长，提高了最终分辨率，以满足集成电路不断发展的需要。需要精密的光刻技术。

不同的光刻胶产品适用于不同的光刻机。从光刻机的发展历史来看，基于光源的差异大致是g-line-i-line-KrF-ArF-EUV的升级方向，g-line向EUV光源的曝光波长持续减少，光刻技术难度增加，IC工艺节点逐渐变小。

一般来说，KrF、ArF、EUV光刻胶主要用于高端光刻机。由于光刻胶生产工艺复杂、纯度要求高、以及长期的技术积累，新进入者实际上很难进入市场。不友好，所以活跃在这个行业的新公司相对较少。

全球半导体光刻胶企业竞争格局

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